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GB28275硅基MEMS制造技术
 
GB28275硅基MEMS制造技术 – 标准名称
 
GB28275: Silicon-based MEMS fabrication technology. Specification for KOH etch process
GB28275:硅基MEMS制造技术,氧化钾腐蚀工艺规范
 
GB28275硅基MEMS制造技术 – 适用范围
 
规定了采用氢氧化钾腐蚀工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求。适用于氢氧化钾腐蚀工艺和管理。
 
Scope: This standard specifies the use of potassium hydroxide etch process performed MEMS device fabrication process requirements to be followed.
This standard applies to KOH etching process and management.
 
GB28275硅基MEMS制造技术 – 参考标准
 
GB/T 26111 微机电系统(MEMS)技术,术语
GB/T 1031产品几何技术规范(GPS),表面结构,轮廓法,表面粗糙度参数及其数值
GB 50073-2001 洁净厂房设计规范
 
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